国立研究開発法人産業技術総合研究所
光の道を紡ぐ、革新的なシリコン細線光導波路の加工方法
国立研究開発法人産業技術総合研究所
光の道を紡ぐ、革新的なシリコン細線光導波路の加工方法
本特許技術は、シリコン細線光導波路の端部を選択的に形成し、保護膜を適用し、さらに特定の方向からイオンを打ち込むことで、シリコン細線光導波路の精度を向上させる方法に関するものです。具体的には、シリコン細線光導波路の端部の下の支持層を除去し、シリコン細線光導波路の上に保護膜を形成する工程、そして特定の方向からイオンを打ち込む工程を組み合わせることで、高精度な光導波路の形成が可能となります。これにより、光通信・光計測技術の精度向上に寄与するとともに、シリコン細線光導波路の製造コストを低減することが可能となります。
つまりは、シリコン細線光導波路の加工技術を改良し、高精度な光導波路を形成するための特許技術
AIによる特許活用案
おすすめ業界 電子部品製造業通信業研究・開発業
- 高精度な光通信システムの開発
- 光計測技術の精度向上
- シリコン細線光導波路の低コスト化
本特許技術を活用することで、光通信システムの精度を大幅に向上させることが可能です。特にデータセンターや通信業界では、光通信の精度向上は極めて重要であり、本技術の活用が期待されます。
光計測技術は、産業界だけでなく、研究・開発など幅広い分野で活用されています。本特許技術を活用することで、計測精度の向上、計測範囲の拡大など、光計測技術のパフォーマンス向上が期待されます。
本特許技術は、シリコン細線光導波路の製造工程を効率化し、製造コストを削減することが可能です。これにより、光通信・光計測技術を活用した製品の低価格化、普及に寄与することが期待されます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2015-508112 |
| 発明の名称 | シリコン系細線光導波路の加工方法 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 | WO2014/156233 |
| 登録番号 | 特許第0006132369号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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