国立研究開発法人産業技術総合研究所
革新的なマイクロ波プラズマ処理装置で、あらゆるプラズマ処理を可能に
国立研究開発法人産業技術総合研究所
革新的なマイクロ波プラズマ処理装置で、あらゆるプラズマ処理を可能に
本特許は、マイクロ波プラズマ処理装置に関するもので、複雑なプラズマ処理を可能にします。装置は、誘電体基板、テーパー部、マイクロストリップ線路、アース導体、マイクロ波入力部、マイクロ波集中の隙間、ガス供給板、ガス入力口、ガス流路、プラズマ発生部、ノズル等を備えています。特に、マイクロ波とガスを使ってプラズマを発生させ、さらにノズルを通じてプラズマを吐出します。そして、このプラズマを使ってウェハ等の接処理基板にCVD、エッチング、アッシング、プラズマ窒化などの処理を施すことができます。また、希ガス、反応性ガス、またはその混合ガスを供給し、さまざまな気圧範囲でプラズマを発生させることが可能です。
つまりは、ガスとマイクロ波を利用してプラズマを発生させ、ウェハ等の接処理基板にプラズマを使用した各種処理を行うマイクロ波プラズマ処理装置
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体製造材料科学電子部品製造
- 半導体製造プロセスの効率化
- 材料研究の進展
- 電子部品の製造
本装置を半導体製造プロセスに導入することで、CVDやエッチングなどのプラズマ処理作業の効率と精度を向上させることができます。これにより、製品の品質向上と生産性の向上が期待できます。
本装置は、新しい材料の開発や既存材料の改良に利用することができます。特に、マイクロ波を利用したプラズマ処理は、材料の表面改質や薄膜形成などの分野で有用です。
本装置は、電子部品の製造にも利用できます。プラズマエッチングは、微細なパターンを形成するために必要なプロセスであり、本装置を使用することで、高精度な電子部品の製造が可能となります。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2015-534339 |
| 発明の名称 | マイクロ波プラズマ処理装置 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 | WO2015/030191 |
| 登録番号 | 特許第0006153118号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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