国立研究開発法人産業技術総合研究所
ポリイミドの微細パターン、新たな手法による劇的進化
国立研究開発法人産業技術総合研究所
ポリイミドの微細パターン、新たな手法による劇的進化
従来のフォトリソグラフィ法では、微細なポリイミドのパターン形成には困難が伴い、またレーザー加工やエッチング法にも問題があった。本発明では、インプリント法を用いた新たなポリイミドの微細パターン形成方法を提供する。先ず、ポリイミドをガラス転移温度以上の温度まで加熱して軟化させ、モールドの凹凸パターンを押し当て加圧成形する。この状態で冷却し、モールドを離型すると、ポリイミド表面に凸凹が形成される。この方法により、従来のフォトリソグラフィ法に比べて大幅な工程短縮ができ、より効率的に微細なポリイミドパターンを形成することが可能となる。
つまりは、インプリント法を活用したポリイミドの微細パターン形成方法の発明
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体業界化学業界電子機器製造業界
- 半導体製造の効率化
- より精密な電子機器の製造
- 新素材の開発
本発明により、微細なポリイミドパターンの形成が効率的に行えるため、半導体製造のプロセスを大幅に短縮でき、生産性の向上が期待されます。
従来の方法では困難だった微細なポリイミドパターンの形成が可能となるため、より精密な電子機器の製造が実現可能となります。これにより、新たな電子機器の開発を促進します。
本発明を活用することで、ポリイミドを用いた新たな微細パターンの素材開発が進むことが期待されます。これにより、新たな製品開発の幅が広がり、多様な産業分野での活用が可能となります。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2015-542536 |
| 発明の名称 | インプリント法によるポリイミドの微細パターン形成方法 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 | WO2015/056487 |
| 登録番号 | 特許第0006192023号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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