学校法人 工学院大学
一歩先を行く、革新的な金属膜形成技術
学校法人 工学院大学
一歩先を行く、革新的な金属膜形成技術
本特許は、高品質の金属膜を効率的に形成する新しい方法を提供します。特に、金属錯体を含む組成物による金属膜形成が特徴で、AgやCuを表す金属原子が含まれています。使用する配位子は、特定のアミノポリカルボン酸から選ばれ、これにより高い柔軟性と適応性が実現されます。この組成物は、金属原子の含有量が0.5質量%〜10質量%の範囲となるように調整されます。さらに、この組成物は塗布後、紫外線を照射することで金属膜を形成します。この技術は、電気伝導性と抗菌性を持つ金属膜の需要が高まる現代社会において、多方面での応用が期待されます。
つまりは、優れた電気伝導性と抗菌性を持つ金属膜形成用組成物とその利用方法を提供します。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 電子部品製造業医療機器製造業自動車産業
- 高性能電子デバイスの製造
- 抗菌性を持つ医療機器の開発
- 自動車部品の耐久性向上
本特許の技術は、電子デバイスの製造に活用できます。特に、電気伝導性が求められる部分にこの金属膜を形成することで、デバイスの性能向上が期待できます。
抗菌性を持つ金属膜は、医療機器の表面処理に有用です。本特許の技術を利用して、患者に感染症を伝播させないような新型の医療機器を開発することが可能です。
本特許の技術は、自動車部品の製造にも応用できます。金属膜を部品表面に形成することで、耐久性や耐食性を向上させ、自動車の寿命を延ばすことが期待できます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2021-153277 |
| 発明の名称 | 金属膜形成用組成物および金属膜形成方法 |
| 出願人/権利者 | 学校法人 工学院大学 |
| 公開番号 | 特開2022-003170 |
| 登録番号 | 特許第0007175532号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
準備中です