国立研究開発法人産業技術総合研究所
高精度なパターン膜形成装置
国立研究開発法人産業技術総合研究所
高精度なパターン膜形成装置
本発明は、溶媒吸収性シリコーンゴムからなるブランケットと、そのブランケットの平滑な表面にインク膜を形成するインク膜形成手段を具備するパターン膜形成装置に関する。さらに、該凸版の凸部表面は、ブランケットの平滑な表面上の半乾燥後のインク膜に押し当てられ、該凸部表面に転写されたインクが被転写物に押し当てられ、被転写物表面にインク膜が転写されるように構成されている。これにより、パターン幅の寸法によらず、パターンの厚みがほぼ一定であり、その表面が平滑かつ断面形状が均一であるパターン膜を作製することが可能となる。
つまりは、溶媒吸収性シリコーンゴムからなるブランケットとインク膜形成手段を用いたパターン膜形成装置
AIによる特許活用案
おすすめ業界 印刷業界電子部品製造業デバイス製造業
- 高解像度の印刷物の作成
- 一定の厚みを持つインク膜の作成
- 低エネルギー・短時間でのデバイス製造
本発明のパターン膜形成装置を利用することで、高解像度の印刷物を作成することが可能となる。特に、電子デバイスの製造などにおいては、高精度なパターン膜が要求されるため、本発明のパターン膜形成装置の使用は大いに有効である。
本発明のパターン膜形成装置を用いると、一定の厚みを持つインク膜を作成することが可能となる。これにより、インク膜の厚みが均一であることが求められる各種の印刷物の製造に利用することができる。
本発明のパターン膜形成装置は、低エネルギーでかつ短時間でデバイスの製造が可能である。これにより、生産効率を向上させつつ、エネルギー消費を抑えることができるため、省エネルギー化を図る製造業において有用である。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2016-510084 |
| 発明の名称 | 均一膜厚かつ矩形断面を有するパターン膜形成方法、形成装置 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 | WO2015/146260 |
| 登録番号 | 特許第0006655844号 |
- サブスク
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