国立研究開発法人日本原子力研究開発機構
革新的な真空部品とその排気方法
国立研究開発法人日本原子力研究開発機構
革新的な真空部品とその排気方法
本製品は、厚さが100nm以上のTiを含むTi層を有する真空容器を具備しています。表面には、Ti酸化物が形成されないTi層、または、Ti層の上に直接形成された厚さが1nm以下、または表面酸素濃度が20atom%以下とされたTi酸化物層が存在します。更に、Ti、ジルコニウム(Zr)、バナジウム(V)、ハフニウム(Hf)、ニオブ(Nb)のいずれかであるNEG材料、またはパラジウム(Pd)、金(Au)、銀(Ag)、プラチナ(Pt)のいずれかである貴金属を含むユーティング層が直接形成されています。このコーティング層は、真空容器の内面に存在し、真空チャンバを排気する対象となります。その内部には電極と不活性ガスを導入するガス導入口が存在し、電極面と内面の電位を切り替えてDC放電を発生させ、排気を行います。
つまりは、高効率の真空部品とその排気方法を提供し、ゲッター作用によって排気を行う。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体産業電子機器製造業研究開発
- 高効率な真空部品の開発
- 真空ポンプの改善
- 高精度な研究機器の製造
本特許の技術を用いて、高効率な真空部品の開発が可能です。特に、ゲッター作用を活用することで、電力を必要とせず、無振動で排気を行うことができます。これは、半導体装置やMEMSなどのデバイス内部で排気を行うポンプとして有効です。
本特許の技術を用いることで、真空ポンプの排気機能を改善することが可能です。特に、他の真空ポンプ（ターボ分子ポンプ等）と併用することで、これらのポンプのみでは到達できない超高真空を得ることができます。
高精度な研究機器、特に電子顕微鏡、双線光電子分光装置、二次イオン質量分析装置などの表面分析装置の製造に本特許の技術を活用することができます。これにより、超高真空環境を維持しながら、高精度な分析を行うことが可能になります。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2021-122848 |
| 発明の名称 | 真空部品、これを用いた真空排気方法 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人日本原子力研究開発機構 |
| 公開番号 | 特開2022-027577 |
| 登録番号 | 特許第0007195504号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
準備中です