国立研究開発法人物質・材料研究機構
ナノテクノロジーで未来を切り拓く - 高誘電性ナノシート積層体

国立研究開発法人物質・材料研究機構
ナノテクノロジーで未来を切り拓く - 高誘電性ナノシート積層体
本発明は、携帯電話やモバイル電子機器など、電子情報機器の広範な分野に適用可能な高誘電性ナノシート積層体とその製造方法、並びにこの高誘電体薄膜を使用した高誘電体素子及びその製造方法に関するものです。特に、この高誘電性ナノシート積層体は、Langmuir-Blodgett法や静電的相互作用による吸着、超音波の使用や紫外線照射、加熱などの工程を経て製造されます。これにより、携帯端末機器などでの多機能化、小型化、高周波化、低価格化といった要求に対応することが可能となります。
つまりは、高誘電性を持つナノシート積層体とその製造方法、及びこれを用いた高誘電体素子の製造方法に関する特許です。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 電子機器製造業モバイルデバイス業界ナノテクノロジー業界
- 高性能スマートフォンの開発
- ウェアラブルデバイスの製造
- 高性能電子部品の製造
本特許の高誘電性ナノシート積層体は、スマートフォンの性能向上に寄与します。スマートフォンは多機能化が求められていますが、そのためには高誘電性素子が必要となります。本発明を用いることで、小型化しながらも高性能なスマートフォンの製造が可能となります。
ウェアラブルデバイスもまた、その小型化と多機能化が求められています。本特許の高誘電性ナノシート積層体を用いることで、小さな体積の中に多くの機能を詰め込むことが可能になります。これにより、より便利で高性能なウェアラブルデバイスの製造が期待できます。
高性能な電子部品の製造も、本特許の適用範囲です。高誘電性を持つ電子部品は、多くの電子機器において必要とされています。本特許の技術を用いることで、これらの部品を高性能かつ低コストで製造することが可能となります。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
出願番号 | 特願2011-112462 |
発明の名称 | 高誘電性ナノシート積層体、高誘電性ナノシート積層体、高誘電体素子、および高誘電体薄膜素子の製造方法 |
出願人/権利者 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
公開番号 | 特開2012-240884 |
登録番号 | 特許第0005885150号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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