国立研究開発法人物質・材料研究機構
真空環境での高速・高精度製膜を可能にする蒸着用シャッター装置
国立研究開発法人物質・材料研究機構
真空環境での高速・高精度製膜を可能にする蒸着用シャッター装置
本発明は、クヌーセンセルなどから蒸発する分子等のビームを高速・高精度で遮蔽・射出を制御し、薄膜や多層膜、多元複合材料膜等の創製が可能な蒸着用シャッター装置を提供します。従来のシャッター装置では射出物質の高速遮蔽・射出制御が困難であり、膜構成物質の組成比率を的確に把握することが難しかった。しかし、本発明のシャッター装置は、少なくとも2枚以上の羽根部により開口部を全閉した状態と全開した状態の少なくとも一方の姿勢を有することで、射出物質の遮蔽・射出制御を高速化し、組成比率の探索に重要な要素となります。
つまりは、真空環境下で、クヌーセンセルなどから蒸発する分子等のビームを高速・高精度で遮蔽・射出を制御し、薄膜や多層膜、多元複合材料膜等の創製が可能な蒸着用シャッター装置。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体製造業素材研究開発宇宙・航空産業
- 半導体製造プロセスの高速化
- 新素材の開発と研究
- 宇宙・航空分野での利用
本発明の蒸着用シャッター装置は、半導体製造のプロセスにおいて、膜の構成物質の組成比率を傾斜的に変化させることで、半導体の性能を最適化するための重要な手段となります。特に、膜の製造速度を向上させることで、生産効率の向上とコスト削減に貢献できます。
本発明は、新素材の開発・研究において、素材の微細な構造を高精度で制御するための有効な手段を提供します。素材の構成比率を高精度に制御することで、素材の物性を最適化し、新たな機能性素材の開発を可能にします。
本発明の蒸着用シャッター装置は、宇宙・航空分野における装置や部品の製造にも有用です。真空環境下での高精度な成膜が可能であるため、宇宙船や衛星等の部品製造において、必要な薄膜や多層膜、多元複合材料膜の製造を高速・高精度で行うことが可能となります。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2012-253996 |
| 発明の名称 | 蒸着用シャッター装置及びこれを用いた成膜装置 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 公開番号 | 特開2013-136834 |
| 登録番号 | 特許第0006008321号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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