学校法人 工学院大学
高解像度で微細部位を映し出すイメージング装置
学校法人 工学院大学
高解像度で微細部位を映し出すイメージング装置
本発明は微細部位イメージング装置に関し、特に、試料を画像化する微細部位イメージング装置に関する。本イメージング装置は、ターゲットとなる試料に電子ビームをパルス状に照射する電子ビーム照射部と、電子ビームのパルスタイミングを制御可能な電子ビームパルス制御部を具備し、電子ビーム照射部から照射される電子ビームにより励起される2次電子から2次電子像を生成する。また、2次イオン像比較部は、電子ビームパルス制御部によるパルスタイミングに対する引出電界パルス制御部によるパルスタイミングの遅延時間を異ならせたときに、イメージング部により生成される2次電子像を画像認識により比較解析する。
つまりは、電子ビームをパルス状に照射し、2次電子像を生成・比較解析して微細部位を画像化する装置。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 医療機器半導体製造素材研究
- 細胞レベルの研究への応用
- 半導体製造プロセスの改善
- 素材の微細構造解析
この技術は、細胞レベルでの生物学的な研究に活用することができます。細胞の微細部位を高解像度で画像化することで、より詳細な観察や解析が可能になります。
半導体製造においては、微細な部品の製造や検査に高解像度の画像が必要となります。本イメージング装置を活用することで、生産効率の向上や品質管理の強化が可能になります。
新素材の開発や既存素材の特性解析において、素材の微細部位の構造を詳細に観察することが重要です。本イメージング装置の活用により、より詳細な素材解析が可能となります。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2012-163242 |
| 発明の名称 | 微細部位イメージング装置 |
| 出願人/権利者 | 学校法人 工学院大学 |
| 公開番号 | 特開2014-022344 |
| 登録番号 | 特許第0006014801号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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