三菱マテリアル株式会社
高密度記録のための革新的スパッタリングターゲット
三菱マテリアル株式会社
高密度記録のための革新的スパッタリングターゲット
この特許では、ハードディスクの高密度磁気記録媒体に適用される磁気記録膜を形成するためのスパッタリングターゲット及びその製造方法について述べられています。特に、垂直磁気記録または熱アシスト磁気記録の媒体に適用される磁気記録膜の形成に焦点を当てています。この特許では、従来の技術に残されていた課題を解決しようとしています。具体的には、FePt-C膜を得るために必要だった二種類のスパッタリングターゲットの必要性を排除し、Cのスパッタリングターゲットから発生するC粉のパーティクルによる異常放電の問題を解決しています。さらに、Bを添加したCoPt膜の問題も解決しています。
つまりは、ハードディスクの高密度磁気記録媒体に適用される磁気記録膜を形成するためのスパッタリングターゲット及びその製造方法についての特許技術。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 データストレージコンピュータハードウェア電子機器製造
- 高密度記録メディアの開発
- データセンターへの適用
- 高性能コンピュータの製造
この特許は、高密度データ記録が必要なメディアの開発に役立つ可能性がある。特に、大容量のデータを保存する必要がある場合、この磁気記録膜の形成技術を活用することで、データ記録密度を大幅に向上させることが可能となる。
データセンターは大量のデータを保存・管理する必要がある。本特許の技術を活用することで、データセンターのストレージデバイスの記録密度を向上させ、スペース効率を改善することが可能となる。
高性能コンピュータは大量のデータを迅速に処理する能力が必要である。本特許の技術を利用して製造された高密度記録メディアは、高性能コンピュータの性能向上に寄与する可能性がある。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2012-184728 |
| 発明の名称 | 磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 |
| 出願人/権利者 | 三菱マテリアル株式会社 |
| 公開番号 | 特開2014-041682 |
| 登録番号 | 特許第0006108064号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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