学校法人東京電機大学
ナノテクノロジーが開く新時代、シリコンナノ粒子の効率的製造方法
学校法人東京電機大学
ナノテクノロジーが開く新時代、シリコンナノ粒子の効率的製造方法
本発明は、シリコン粉末を水と有機溶媒とを混合させた混合溶液に投入し、その後エッチング液を投入してシリコンナノ粒子を製造するという、新たな製造プロセスを提案します。この製造法は、従来のPVDやCVDなどのドライプロセスと異なり、ウェットプロセスを用いることで大量合成が可能になります。また、エッチング工程で粒径を制御することで、バンドギャップエネルギーを調整し、光学的特性、電気的特性、磁気的特性、化学的特性を変化させることが可能です。これにより、シリコンナノ粒子はディスプレイ、照明器具、太陽電池などの多様な分野での応用が期待されます。
つまりは、本発明は、大量合成可能なウェットプロセスを用い、化学エッチング法によりシリコン粉末からシリコンナノ粒子を製造する新たな方法を提供します。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 電子機器製造業化学業エネルギー業
- 高性能ディスプレイの製造
- 効率的な太陽電池の開発
- 光学・電気・磁気材料の開発
本製造法を用いて作られたシリコンナノ粒子は、その特性を活かして高性能なディスプレイの製造に利用できます。量子ドットの特性を利用して、色の再現性や解像度を向上させることが可能です。
シリコンナノ粒子は、太陽電池の開発にも利用可能です。バンドギャップエネルギーを調整することで、太陽光の吸収効率を向上させ、電力変換効率の高い太陽電池の開発が期待できます。
本製造法により製造されたシリコンナノ粒子は、光学的特性、電気的特性、磁気的特性を調整可能であるため、これらの特性を必要とする各種材料の開発に利用できます。例えば、新たな光学材料や電子デバイス、磁気記録材料などの開発が期待できます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2013-044180 |
| 発明の名称 | シリコンナノ粒子の製造方法 |
| 出願人/権利者 | 学校法人東京電機大学 |
| 公開番号 | 特開2014-172766 |
| 登録番号 | 特許第0006057424号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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