国立研究開発法人産業技術総合研究所
次世代の導電性パターン形成技術
国立研究開発法人産業技術総合研究所
次世代の導電性パターン形成技術
本特許は、高精細な導電性パターンを形成する技術に関するもので、特にカルボン酸金属塩を形成する反応性表面を持つ銀ナノ粒子層を用いています。この技術は、大面積で高精細な導電路パターンを効率的に形成することが可能で、金属ナノ粒子インクの塗布による形成方法を採用しています。また、被覆金属微粒子の製造法についても詳細に説明されており、高温プロセスを必要としないため、プラスチック基板上への形成も可能です。被覆金属微粒子は、アルキルアミンを含む被膜で被覆され、製造を円滑にすると同時に、低温においても焼結が可能となります。
つまりは、高精細な導電性パターンを形成するための特許技術
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体産業電子機器製造業ナノテクノロジー業界
- 高精度な電子機器の製造
- プラスチック基板への導電性パターン形成
- ナノインクの開発
高い精度で導電性パターンを形成することが可能なこの特許技術は、半導体や電子機器の製造において非常に有用です。特に微細なパターンを必要とする半導体製造においては、製造精度の向上に貢献可能です。
本特許技術は、高温プロセスを必要としないため、プラスチック基板上への導電性パターンの形成が可能です。これにより、軽量で柔軟性のある電子機器の製造が可能となります。
本特許は、金属ナノ粒子インクの塗布による導電性パターンの形成方法を提供します。これは、新たなナノインクの開発に貢献し、印刷電子機器の製造などに活用できます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2013-186922 |
| 発明の名称 | 導電性パターンの形成方法 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 | 特開2014-195794 |
| 登録番号 | 特許第0006229216号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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