国立研究開発法人産業技術総合研究所
効率的なウェハエッチングへ、革新的なプラズマエッチング装置
国立研究開発法人産業技術総合研究所
効率的なウェハエッチングへ、革新的なプラズマエッチング装置
本特許は、ウェハへのエッチングを行うためのプラズマエッチング装置に関するもので、特にその構造と機能に焦点を当てています。装置は電圧を印加し、エッチングガス中にプラズマを発生させることでウェハへのエッチングを効率的に行います。また、装置はステージに設置されるウェハを冷却する冷却部を備えており、エッチングガスの吹き付け方向に交差する方向にステージを移動させるスキャン部も具備しています。これにより、エッチングの均一性と品質を向上させます。さらに、エッチングガス供給部内を通過するエッチングガス中にマイクロプラズマを発生させる機能も備えています。これらの特長により、本装置はウェハのエッチングを高効率かつ均一に行うことが可能となります。
つまりは、電圧を印加し、エッチングガス中にプラズマを発生させるプラズマエッチング装置の特許
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体製造業電子部品製造業マイクロエレクトロニクス業界
- 高効率な半導体製造ラインの構築
- ウェハエッチングサービスの提供
- プラズマエッチング装置のレンタルビジネス
このプラズマエッチング装置は、半導体製造ラインにおけるウェハのエッチングプロセスを高効率化し、均一なエッチング結果を得ることが可能です。これにより、製品の品質向上と生産性の向上を同時に達成できます。
高品質なウェハエッチングを可能にする本装置を用いて、エッチングサービスを提供することも可能です。特に、半導体製造業や電子部品製造業向けに、高品質で迅速なエッチングサービスを提供することで、顧客からの信頼と満足度を得ることができます。
本装置の高性能と効率性は、半導体製造業者や研究機関などからの需要が見込めます。そのため、装置のレンタルビジネスを展開することで、新たな収益源を確立することが可能です。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2014-035553 |
| 発明の名称 | ステージ式のプラズマエッチング装置 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 | 特開2014-212303 |
| 登録番号 | 特許第0006288702号 |
- サブスク
- 譲渡
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