国立研究開発法人産業技術総合研究所
高耐熱性抵抗体膜、その製造方法
国立研究開発法人産業技術総合研究所
高耐熱性抵抗体膜、その製造方法
本発明は、250-400度の高温に耐える抵抗体材料の製造法に関する。特に、銀、パラジウム、ルテニウム酸化物、有機金属化合物などを複合的に使用した抵抗体膜の製造手法を提供する。この製造法は、基材に抵抗体材料を塗布し、光照射あるいは焼成により抵抗体膜を作製する。さらに、先駆体溶液を基板上に塗布し、有機化合物層を形成、レーザー照射によりパターニングを行い、最終的に抵抗体膜を製造する。この製造法は、高耐熱性を持つ導電材料の開発、特に酸化ルテニウムに代わる導電材料の開発に利用できる。
つまりは、ルテニウム酸化物に代替可能な高耐熱抵抗体膜とその製造法を特許化
AIによる特許活用案
おすすめ業界 電子部品製造業半導体製造業電気機器製造業
- 高耐熱性抵抗体膜の製造
- 高価なルテニウム材料の代替
- 抵抗体の形状設計
高温環境下での使用を想定した電子部品の製造に活用できる。特に、シリコンカーバイドを使用したパワーエレクトロニクス分野など、動作温度が高い部品の製造に適している。
高価なルテニウム材料を使用する代わりに、銀、パラジウム、ルテニウム酸化物、有機金属化合物を使用することで、導電材料の製造コストを削減できる。
導電材料の抵抗温度係数を調製するために、レーザー照射によるパターニングを行う。これにより、抵抗体の形状に相当するパターンの設計が可能となる。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2014-095631 |
| 発明の名称 | 抵抗体材料、抵抗体膜及びその製造方法 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 | 特開2014-239212 |
| 登録番号 | 特許第0006455913号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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