国立研究開発法人物質・材料研究機構
非破壊的な電気接触を可能にする革新的なコンタクトプローブ
国立研究開発法人物質・材料研究機構
非破壊的な電気接触を可能にする革新的なコンタクトプローブ
本特許は、電気伝導性を有する弾性体の支持体を備え、特定の物質を支持体の折り曲げ箇所に取り付けることで、物質を溶融させてから凝固させることにより、非破壊的な電気接触を可能にするコンタクトプローブに関するものです。さらに、物質の凝固後にその表面を他の導電性物質で被覆することで、絶縁性領域を形成し、その絶縁性領域の形成は絶縁性層の被覆により行います。また、この絶縁性層をフォトレジスト層とし、その開口部の形成はフォトレジストのレーザーによる起光及び露光後の現像により行います。このような構造により、薄膜との間の非破壊的な接触を実現し、薄膜の表面に沿って接触部を相対的に移動させることなく接触することが可能です。
つまりは、電気伝導性の折り曲げられた線状形状を有し、非破壊的な電気接触を可能にするコンタクトプローブ。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 電子機器製造業半導体製造業マイクロ電子学
- 非破壊的な試験装置の開発
- 高精度な電子機器の製造
- マイクロ電子学の研究
この特許を活用して非破壊的な試験装置を開発することができます。電子機器や半導体などの微細な構造を損傷することなく電気的な性質を試験することが可能になります。
高精度な電子機器の製造において、非破壊的に電気接触を行うことができます。これにより、機器の品質を確保し、製造過程での損傷リスクを軽減することが可能になります。
マイクロ電子学の研究において、微細な構造に電気接触を行う際にこの特許を活用することで、非破壊的に研究を進めることが可能になります。これにより、より精度の高い研究結果を得ることが期待できます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2014-116359 |
| 発明の名称 | コンタクトプローブ及びその製造方法、非破壊的なコンタクト形成方法、多層膜の製造過程における測定方法並びにプローバー |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 公開番号 | 特開2015-014595 |
| 登録番号 | 特許第0006408257号 |
- サブスク
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- ライセンス
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