国立研究開発法人産業技術総合研究所
光の力で未来を照らす、次世代薄膜太陽電池の製造方法
国立研究開発法人産業技術総合研究所
光の力で未来を照らす、次世代薄膜太陽電池の製造方法
この特許は、化合物薄膜太陽電池の製造方法を提供します。レーザースクライブ工程により、基板上の背面電極層と光吸収層を含む構造体を分割し、これを多数の薄膜太陽電池セルとして組み合わせます。また、特定の照射条件下でパルスレーザー光を用いて透明導電膜層に溝を形成することで、積層構造部分の端部を除去します。これらの工程により、化合物薄膜太陽電池の製造が可能となります。さらに、パルスレーザー光のパルス幅はピコ秒又はフェムト秒オーダーの超短パルスレーザーを用いること、パルスエネルギー容度は光吸収層のレーザーアブレーションが起こる関値以下であることが特徴となっています。
つまりは、高効率化合物薄膜太陽電池の製造方法を特許化。レーザースクライブ工程を活用した革新的な手法で、太陽エネルギーの効率的な利用を実現します。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 エネルギー産業電子機器製造業建築業
- 高効率太陽電池の製造・販売
- エネルギーソリューションの提供
- 産業用電力供給ソリューションの提供
この特許の製造方法を活用して、高効率の化合物薄膜太陽電池を製造し、市場に提供することが可能です。環境に優しく、省資源・低コスト化に有利な太陽電池は、再生可能エネルギー需要の増加と共に需要が見込まれます。
この高効率化合物薄膜太陽電池を活用したエネルギーソリューションを提供します。ビルや住宅の屋根にこの太陽電池を設置し、自家消費型電力供給を行うことで、エネルギーコストの削減とCO2排出量の削減を実現します。
この高効率化合物薄膜太陽電池を活用し、工場や大規模施設向けの電力供給ソリューションを提供します。大量の電力を必要とする産業用途でも、太陽電池による電力供給は環境負荷の低減と運用コストの削減に繋がります。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2013-162235 |
| 発明の名称 | 化合物薄膜太陽電池の製造方法 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 | 特開2015-032731 |
| 登録番号 | 特許第0006202308号 |
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