日本放送協会
先端の光変調素子製造技術

日本放送協会
先端の光変調素子製造技術
本特許は、光変調素子の製造方法に関するものです。特に、磁化固定層成膜工程の後に仮保護膜を除去する工程を行い、さらに導電膜を成膜して、その上に磁化固定層を構成する材料を成膜することを特徴とします。また、中間層を構成する材料をさらに成膜し、前記磁化自由層成膜工程の前に行います。これらの工程により、光を磁気光学効果により光の位相や振幅等を空間的に変調して出射する光変調素子を製造します。この光変調素子は、ホログラフィ装置等の光学装置、ディスプレイ技術、記録技術等の分野で広く利用され、高速処理や光情報処理技術への応用も研究されています。
つまりは、磁化固定層と導電膜を利用した光変調素子の製造方法
AIによる特許活用案
おすすめ業界 光学装置製造ディスプレイ製造記録技術
- 高速処理技術への応用
- 光情報処理技術への応用
- ディスプレイ技術への応用
本特許の光変調素子製造方法を用いて、高速処理が可能な光変調器を製造することができます。これにより、データ処理速度の向上が期待されます。
本特許の技術を応用し、光情報を磁気光学効果により変調することで、光情報処理技術の新たな可能性を開くことができます。これは、光通信や光コンピューティングなどの分野での活用が期待されます。
本特許の光変調素子製造方法を用いることで、新たなディスプレイ技術の開発が可能となります。特に、高精細性や高速処理が求められる現代のディスプレイ技術において、本製造方法は大きな貢献を果たすと考えられます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
出願番号 | 特願2013-189896 |
発明の名称 | 光変調素子の製造方法および空間光変調器 |
出願人/権利者 | 日本放送協会 |
公開番号 | 特開2015-055798 |
登録番号 | 特許第0006182030号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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