知財活用のイノベーションで差別化を

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国立研究開発法人産業技術総合研究所
光の波形を制御する最先端レーザー光フーリエ合成装置

国立研究開発法人産業技術総合研究所
光の波形を制御する最先端レーザー光フーリエ合成装置

本特許は、レーザー光フーリエ合成法及び装置に関するものです。この装置はレーザー光源からのレーザー光を基本波とする高調波を発生し、その位相を制御することで基本波及び高調波の合成光を出力します。そして、この合成光により非対称分子の飛行時間型質量分析を行います。分析結果は、非対称分子気体から生じた光解離生成物イオンの前方放出成分と後方放出成分の強度比に基づき、相対位相を決定します。この結果を利用して位相制御装置を調整することが可能です。そのため、任意の光の波形を制御し、高精度な分析を実現することが可能です。

つまりは、光の基本波と高調波を制御することで非対称分子の飛行時間型質量分析を行う装置。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 化学物理バイオテクノロジー

  • 高精度な質量分析装置の開発
  • この技術を使用して、任意の光の波形を制御することで、非対称分子の飛行時間型質量分析を行う装置を開発することができます。これにより、より高精度な質量分析が可能になります。

  • フーリエ光源の開発
  • 基本波と高調波を制御することで任意の光の波形を作成するフーリエ光源を開発することができます。この光源は、物質創成や大容量光通信システムなど、様々な応用領域で活用できます。

  • 光解離生成物イオンの研究
  • 非対称分子から生じた光解離生成物イオンの強度比を利用して相対位相を決定するため、光解離生成物イオンの研究にも活用できます。これにより、光解離生成物イオンの性質や生成機構についてより深く理解することが可能になります。

活用条件

  • サブスク
  • 譲渡
  • ライセンス

商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ

特許評価書

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  • 権利概要
出願番号特願2013-196982
発明の名称レーザー光フーリエ合成法及び装置
出願人/権利者国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号特開2015-064425
登録番号特許第0006176661号
  • サブスク
  • 譲渡
  • ライセンス

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