大陽日酸株式会社
高品質シリコン窒化膜の鍵、トリイソシアナトシランの精製法
大陽日酸株式会社
高品質シリコン窒化膜の鍵、トリイソシアナトシランの精製法
本特許は、トリイソシアナトシランの精製法とその供給方法について詳述しています。特許の内容は、粗トリイソシアナトシラン化合物を精製し、それを高純度のトリイソシアナトシランとして供給する方法に関するものです。この方法は、液体状態の粗トリイソシアナトシラン化合物を精製容器内に充填し、高蒸気圧不純物を排出した後、精製したトリイソシアナトシラン化合物を捕集容器に移送し液化して単離するという手順を含みます。また、本特許は、精製容器から排出されるガス中の高蒸気圧不純物の濃度を測定し、それがあらかじめ設定した閾値未満となった後に、精製トリイソシアナトシラン化合物の捕集と液化を開始することを特徴としています。
つまりは、トリイソシアナトシランの精製方法とその供給方法についての特許
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体製造化学工業マイクロマシニング
- 半導体製造プロセスの最適化
- 環境に配慮した製膜プロセスの実現
- 高品質デバイスの開発
本特許の精製法を用いることで、半導体製造プロセスで使用されるトリイソシアナトシランの品質を向上させることが可能です。これにより、製造過程での不良品の削減や生産効率の向上が期待できます。
トリイソシアナトシランはハロゲンフリーの原料として利用できるため、本特許の精製法を用いれば環境に配慮した製膜プロセスの実現が可能です。これにより、製造プロセスの環境負荷を低減し、持続可能な製造業の推進に寄与できます。
本特許の精製法を用いて高純度のトリイソシアナトシランを供給することで、高品質なシリコン窒化膜を形成することが可能となります。これにより、高性能な半導体チップやディスプレイ、各種センサ、マイクロマシンなどの開発に役立てることができます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2013-261546 |
| 発明の名称 | トリイソシアナトシランの精製方法及び供給方法 |
| 出願人/権利者 | 大陽日酸株式会社 |
| 公開番号 | 特開2015-117201 |
| 登録番号 | 特許第0006243215号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
準備中です