国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
次世代の高精度レーザー装置、その名もJP 6341596 B2
国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
次世代の高精度レーザー装置、その名もJP 6341596 B2
JP 6341596 B2は、パルスレーザー光の強度を中心で定義することで、高精度なレーザー光源を出力するレーザー装置です。この装置は、ビームサイズの定義に利用する長辺と短辺の比率を特定の値に設定し、その結果を用いてレーザー光の強度を制御します。さらに、この装置は特殊なガラス材料を使用して構成されており、特定のパラメーターにおける光の圧縮問題を解決します。このレーザー装置は、計測、加工等の様々な分野で広く使用でき、高強度のパルスレーザー光を得るための革新的な解決策を提供します。
つまりは、高強度のパルスレーザー光を効率良く生成する新型レーザー装置
AIによる特許活用案
おすすめ業界 製造業光学産業研究開発
- 高精度なレーザー加工
- 先端科学研究
- インダストリアル計測
このレーザー装置は、その高強度のパルスレーザー光を利用して、精密なレーザー加工を可能にします。特に、微細な部品や複雑な形状の加工に有効です。
高強度のパルスレーザー光は、物質の性質を探るための研究や、新たな物質の開発において重要な役割を果たします。この装置は、そのような先端科学研究をサポートします。
高強度のパルスレーザー光は、精度の高い計測を可能にします。製造業や建設業など、精度が求められる分野での計測に、このレーザー装置を活用することが可能です。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2013-269085 |
| 発明の名称 | レーザー装置 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 |
| 公開番号 | 特開2015-125250 |
| 登録番号 | 特許第0006341596号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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