富士通株式会社
エネルギーの未来、水素生成装置への次世代革新
富士通株式会社
エネルギーの未来、水素生成装置への次世代革新
本特許は、イオン結合性導電体により形成された触媒下地層と、チタンイオンを含むアパタイトにより形成された光触媒層を持つ水素生成装置に関するものです。この装置は、第1の槽と第2の槽を含み、各槽内にそれぞれ電極が配置されています。イオン結合性導電体は、フッ素添加酸化スズ、スズ添加酸化インジウム、酸化和亜鉛、または4族、5族、6族遷移金属の炭化物または窒化物を含みます。また、光触媒層の厚さは50nmから227mの範囲にあります。水素生成における効率性を向上させるための技術は、エネルギー産業にとって非常に重要であり、この発明はその一環と言えます。
つまりは、この特許は、チタンイオンを含むアパタイトを活用した新型水素生成装置およびその生成方法について述べています。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 エネルギー環境工業
- 次世代のエネルギー生産システム
- 環境に優しいエネルギー供給ソリューション
- 工業用途への応用
この水素生成装置は、効率的な水素生成のための新たな技術として、エネルギー産業における次世代のエネルギー生産システムの開発に活用できます。
水素はクリーンなエネルギー源として知られており、この特許を活用すれば、環境に優しいエネルギー供給ソリューションの開発に寄与する可能性があります。
工業プロセスの多くでは、水素が重要な役割を果たします。この発明は、工業用途での水素生成を効率化し、コストを削減するための新たな方法を提供する可能性があります。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2014-022644 |
| 発明の名称 | 電極、水素生成装置及び水素を生成する方法 |
| 出願人/権利者 | 富士通株式会社 |
| 公開番号 | 特開2015-147712 |
| 登録番号 | 特許第0006331439号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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