古河機械金属株式会社
高精度な半導体基板評価の可能性を解き放つ
古河機械金属株式会社
高精度な半導体基板評価の可能性を解き放つ
本発明は、複数の転位に対応するピットが形成される不都合を軽減し、転位解析の精度を向上させることを目指す。高精度な転位解析を可能にするために、評価対象の基板に、基板の第1の面から基板の厚さ方向に伸び、基板に形成された転位と繋がり、かつ、第1の面における開口の直径Diが100nm≦Di≦500nmであり、アスペクト比(三深さDe/開口の直径Di)が3≦De/Di≦100を満たす縦長ピットを含むピットを複数形成するピット形成工程と、ピット形成工程の後、縦長ピットの数をカウントすることで、第1の面に貫通する転位の数をカウントする解析工程が含まれます。これにより、転位の数を高い精度で推定することが可能になります。
つまりは、独自のピット形成工程と解析工程を活用したIII族室化物半導体基板の評価方法の開発
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体製造業電子部品製造業テクノロジー研究開発業
- 高精度な半導体製造の実現
- フォールト検出の精度向上
- 教育・研究への活用
本発明を半導体製造のプロセスに組み込むことで、転位の数を高い精度で推定できる。これにより、製品の品質と信頼性を向上させることが可能になります。
本発明の技術を応用し、半導体製造プロセスにおけるフォールト検出の精度を向上させることが可能です。これにより、製造効率と生産性を向上させることが期待できます。
本発明の技術は、半導体技術に関する教育や研究において、転位解析の理解を深めるための教材として利用することが可能です。また、新たな転位解析法の開発にも役立てることができます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2014-029763 |
| 発明の名称 | ＩＩＩ族窒化物半導体基板の評価方法 |
| 出願人/権利者 | 古河機械金属株式会社 |
| 公開番号 | 特開2015-151331 |
| 登録番号 | 特許第0006262561号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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