株式会社ミツトヨ
高精度測定を可能にする新世代の斜入射干渉計
株式会社ミツトヨ
高精度測定を可能にする新世代の斜入射干渉計
本特許は、斜入射干渉計に関するものであり、測定光の光量に基づいて光源から出射される光の光量を制御する光源制御部を備えることと、被測定面に対して斜め方向から測定光を照射し、被測定面から反射された測定光と参照光とを干渉させて被測定面の形状を測定することを特徴としています。また、測定光の一部を遮光する機能や、参照光の光量を検出し、その光量に基づいて可変減光フィルターによる減光量を制御する参照光制御部を備えています。これにより、より精度の高い測定が可能となります。
つまりは、光量制御と測定光の遮光機能を持つ新型斜入射干渉計
AIによる特許活用案
おすすめ業界 光学産業精密機器製造業半導体製造業
- 精密な光学計測装置の開発
- 光学計測サービスの提供
- 光学計測技術の教育・研究
本特許を活用して、より精度の高い光学計測装置の開発が可能です。光源制御部や測定光遮光部、参照光制御部などの機能により、測定対象の表面形状をより高精度に測定することが可能となります。
本特許の技術を用いて、精密な光学計測サービスを提供することが可能です。特に、半導体製造業や精密機器製造業などでの利用が有望で、より高精度な製造を実現するための一助となります。
本特許を活用し、光学計測技術の教育や研究に利用することが可能です。特に、斜入射干渉計の操作や測定原理を理解する上で、本特許の技術は非常に有益な教材となります。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2014-031522 |
| 発明の名称 | 斜入射干渉計 |
| 出願人/権利者 | 株式会社ミツトヨ |
| 公開番号 | 特開2015-155865 |
| 登録番号 | 特許第0006345944号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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