学校法人 関西大学
光による高分子材料のパターン形成技術
学校法人 関西大学
光による高分子材料のパターン形成技術
本特許は、光照射により多量化する官能基（以下「光多量化官能基」という）を有する高分子を主成分とし、光照射により体積増加あるいは体積減少するゴム系高分子材料またはエラストマー系高分子材料と、前記ゴム系高分子材料またはエラストマー系高分子材料に分散される粒子とを含有する粒子含有高分子材料から形成される、パターン形成用基材の製造方法に関するものである。そして、この高分子材料はド基、カルコン基、ウラシル基、クマリン基およびチミン基より成る群から選択される少なくとも一種の官能基を含む。この技術は、微細パターン形成技術を用いることにより、他の微細パターン形成技術で必要とされる洗浄等の煩雑な工程や厳密な雰囲気制御、鋳型等を必要とせず、マスクを介して光架橋性高分子フィルムに光照射するだけで、あるいは、光架橋性高分子フィルムにレーザー光線を直接照射するだけで、便利に微細パターンを形成することができる。
つまりは、光照射により、パターン構成領域が一続きとなるパターンを形成するためのパターン形成用基材の製造方法
AIによる特許活用案
おすすめ業界 化学業界電子部品製造業自動車産業
- 高精度パターン形成
- フレキシブルな素材の開発
- 省資源・環境負荷低減
微細パターン形成技術を使用して、電子部品などの精密なパターン形成を行う。この技術を使用することで、従来の煩雑な工程や厳密な雰囲気制御を必要とせずに、高精度なパターンを形成することが可能となる。
光照射により体積が変化する高分子材料を活用し、フレキシブルかつ耐久性のある新素材の開発を行う。これにより、自動車やエレクトロニクスの部品など、さまざまな産業での新たな用途が可能となる。
従来の微細パターン形成技術では、洗浄等の煩雑な工程や厳密な雰囲気制御が必要であったが、本技術を用いることでこれらを省くことができ、生産プロセスの効率化と資源・環境への負荷を軽減することが可能となる。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2014-039966 |
| 発明の名称 | パターン基材およびその製造方法ならびにパターン形成用基材 |
| 出願人/権利者 | 学校法人 関西大学 |
| 公開番号 | 特開2015-164978 |
| 登録番号 | 特許第0006404578号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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