三菱マテリアル株式会社
高性能磁気記録膜の新たな可能性
三菱マテリアル株式会社
高性能磁気記録膜の新たな可能性
本特許は、磁気記録膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法を提供します。これは、FePt合金粉、微粉を除去したNiPt合金粉、Pt粉を混合した粉末を真空又は不活性ガスの環境でホットプレスして焼結体を作り出すことにより、焼結体の透過磁束密度を70%以上にすることが可能です。さらに、本特許では、同様の手順でFePt合金粉と、微粉を除去したNiPt合金粉と、Pt粉とアセチレンガスの熱分解により生成されたカーボンブラック粉を混合した粉末を使用した製造法も提案しています。これにより、スパッタリング時の透過磁束密度 (Pass Through Flux: PTF) を向上させ、高比度磁気記録媒体に適用される磁気記録膜の性能を向上させることができます。
つまりは、本特許は、高比度磁気記録媒体に適用される磁気記録膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法に関するものです。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 電子機器製造業コンピュータ製造業データストレージ業界
- 高性能ハードディスクの製造
- 高速で大量のデータを記録するメディアの開発
- 次世代磁気記録技術の研究開発
本特許技術を使用することで、透過磁束密度が高い磁気記録膜を形成することが可能となり、これを用いることで高性能なハードディスクの製造が可能になります。
本特許技術を基に、高速で大量のデータを記録できる新たな磁気記録メディアを開発することが可能です。これにより、データセンターやクラウドストレージ等の大量データを扱う環境での利用が期待できます。
本特許技術は、焼結体の透過磁束密度を向上させることにより、次世代の超高密度磁気記録技術の研究開発に対する新たな可能性を提供します。この技術を活用すれば、現行の技術を大幅に超える記録密度を持つ磁気記録媒体の開発が期待できます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2014-068652 |
| 発明の名称 | 磁気記録膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
| 出願人/権利者 | 三菱マテリアル株式会社 |
| 公開番号 | 特開2015-190018 |
| 登録番号 | 特許第0006213342号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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