国立研究開発法人産業技術総合研究所
優れたヒドロシラン化合物の製造法
国立研究開発法人産業技術総合研究所
優れたヒドロシラン化合物の製造法
本特許は、イリジウム錯体を用いてヒドロシラン化合物を製造する技術に関するものです。反応工程は、ジアルキルベンゾイミダゾール-2-イリデン配位子およびホスフィン配位子を有するイリジウム錯体、および塩基の存在下で行われます。特にXは-OSO、CF、-OTL、ヨード基などから選択可能で、R1からR4およびP1からP4にはメチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロビル基、nローブチル基、t-プチル基、フェニル基などが選択可能です。この製造法は、水素ガスを水素原子源として触媒的にSi-本結合を形成するヒドロシラン化合物の製造方法に関するもので、高い生産性と安定性を持つため、シリコン樹脂の原料や反応剤などの製造に有用です。
つまりは、イリジウム錯体を用いたヒドロシラン化合物の製造方法として特許化
AIによる特許活用案
おすすめ業界 化学工業シリコン製品製造業材料科学
- 高品質シリコン樹脂の製造
- 化学反応剤の開発
- 環境負荷低減への貢献
本製造法を活用して、ヒドロシラン化合物を製造することで、高品質なシリコン樹脂の原料を確保することが可能です。これにより、シリコン樹脂製品の品質向上とコスト削減を実現できます。
本製造法で得られるヒドロシラン化合物は、多様な化学反応において反応剤として活用可能です。これにより、新たな化学反応剤の開発や既存反応剤の改良が可能となります。
本発明によるヒドロシラン化合物の製造法は、水素ガスを水素原子源として使用するため、環境への負荷が低いとされています。これを活用することで、化学工業の環境負荷を低減する方策へ貢献可能です。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2014-143066 |
| 発明の名称 | ヒドロシラン化合物の製造方法 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 | 特開2016-017071 |
| 登録番号 | 特許第0006332682号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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