国立研究開発法人産業技術総合研究所
次世代の微細加工技術、効率的な熱ナノインプリント技術
国立研究開発法人産業技術総合研究所
次世代の微細加工技術、効率的な熱ナノインプリント技術
本特許は、ナノメートルサイズのパターンを大量転写できる熱ナノインプリント技術に関するものです。この技術は、電子デバイス、光学デバイス、バイオチップ等の製作手法に取り入れられています。しかし、従来の方法では、成形材料が不足し、気泡が残存するため成形不良が発生する可能性が高いという問題がありました。本特許では、モールドパターンの成形不良を防止するための独自の手法を提供します。モールドパターンの設計、成形材料の流動性改善、空気から疾縮性ガスへの置換などを組み合わせた方法で成形不良を防止します。これにより製品の品質を向上させ、製造プロセスの効率化を可能にします。
つまりは、モールドパターンの成形不良を解消する効率的な熱ナノインプリント技術
AIによる特許活用案
おすすめ業界 電子部品製造業光学機器製造業バイオテクノロジー業
- 高性能電子デバイスの製造
- 光学デバイスの精密製造
- バイオチップの大量生産
本特許の技術を利用することで、電子デバイスの製造過程におけるナノインプリントの成形不良を防止し、より高性能なデバイスを製造することが可能になります。
光学デバイスの製造においても、本技術を適用することで、微細なパターンが必要な部分の成形不良を防止し、製品の品質を向上させることができます。
バイオチップにおいても微細なパターン転写が必要です。本技術を採用することで、成形不良を防ぎながら高効率での大量生産が可能になります。これにより、コスト削減と製品の品質向上を両立することができます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2015-219201 |
| 発明の名称 | 液浸インプリント方法 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 | 特開2016-027963 |
| 登録番号 | 特許第0005999738号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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