国立研究開発法人物質・材料研究機構
革新的な高解像度アプリケーションへのソリューション - 表面改質希土類ホウ化物エミッタ
国立研究開発法人物質・材料研究機構
革新的な高解像度アプリケーションへのソリューション - 表面改質希土類ホウ化物エミッタ
本特許は、希土類ホウ化物エミッタの表面改質方法に関するものであり、電子放出部の表面を、前記希土類ホウ化物の内部から移動した希土類元素で終端する新たな手法を提供します。この改良により、電子放出部の表面に移動した希土類によって形成された空間、即ち空洞欠陥部が形成されます。この空洞欠陥部は、高輝度とエネルギーの広がりが低い電子ビームを生成します。特に、走査型電子顕微鏡（SEM）、透過型電子顕微鏡（TEM）、スキャン透過型電子顕微鏡（STEM）、電子ビームリソグラフィー装置などの高解像度アプリケーションにおいて、優れた性能を発揮します。さらに、本特許には電力供給部や電流計、論理デバイス部など、エミッタの操作に必要な機能も含まれています。
つまりは、希土類ホウ化物エミッタの表面改質方法に関する特許、これにより高輝度とエネルギーの広がりが低い電子ビームを生成。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体製造業医療機器製造業科学研究機関
- 高解像度顕微鏡の開発
- 改良された電子ビームリソグラフィー装置の製造
- 高性能な医療機器の開発
本特許の技術を活用し、高輝度とエネルギーの広がりが低い電子ビームを生成する新たな高解像度顕微鏡を開発することが可能です。これにより、より高精度な観察が可能となり、科学研究や医療分野での利用が期待できます。
本特許の技術を利用して、電子ビームリソグラフィー装置を改良することができます。これにより、より高精度なパターン生成が可能となり、半導体製造業界での需要を満たすことができます。
本特許の技術を活用して、医療機器の開発を行うことが可能です。特に、高解像度と高輝度の電子ビームを利用した診断装置や治療装置の開発に用いることで、より高精度な診断や治療が可能となります。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2014-166250 |
| 発明の名称 | 希土類ホウ化物エミッタの表面改質方法、表面改質希土類ホウ化物エミッタ及び表面改質装置兼電子線源装置 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 公開番号 | 特開2016-042435 |
| 登録番号 | 特許第0006309860号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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