国立研究開発法人物質・材料研究機構
高性能希土類異方性磁石材料の新時代
国立研究開発法人物質・材料研究機構
高性能希土類異方性磁石材料の新時代
この特許は、希土類異方性磁石材料とその合成方法について説明しています。特に、Nd(Fe, T,_,)Nの化合物（TはFe、Co、N iから選択される少なくとも1種類の元素）で表され、ThMn19型結晶構造を有する材料に焦点を当てています。この材料は窒素原子がR原子間位置に位置し、室温の磁化が1.7以上、異方性磁界が7以上、キュリー温度が300以上であり、これらの特性により高性能な永久磁石として利用可能です。また、合成方法においては、格子ミスフィットが10％以下となる格子定数を持つ基板およびバッファー層を用い、室温で窒素雰囲気の下で反応させることにより、高性能な希土類異方性磁石材料を作り出します。
つまりは、強力な磁性と高い耐久性を兼ね備えた、新型の希土類異方性磁石材料とその合成方法の開発
AIによる特許活用案
おすすめ業界 エレクトロニクス情報通信自動車
- 高性能モーターの開発
- 次世代電子機器の開発
- 医療機器の改良
この希土類異方性磁石材料を使用すれば、高い磁化と異方性を持つモーターを製造できます。特に、電気自動車やエネルギー貯蔵装置などの分野での利用が期待されます。
高い磁化と異方性を持つこの希土類異方性磁石材料は、次世代の電子機器や情報通信機器の開発に活用できます。特に、高性能ハードディスクや高速通信デバイスなどに用いることで、性能の大幅な向上が期待されます。
この希土類異方性磁石材料は、医療分野にも応用可能です。例えば、MRIなどの磁気画像診断装置に用いることで、より高解像度の画像を得ることが可能になります。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2014-165769 |
| 発明の名称 | 希土類異方性磁石材料およびその製造方法 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 公開番号 | 特開2016-042527 |
| 登録番号 | 特許第0006547141号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
準備中です