国立研究開発法人物質・材料研究機構
革新的な効率を誇る三次元微細構造パターン基板を用いた薄膜太陽電池
国立研究開発法人物質・材料研究機構
革新的な効率を誇る三次元微細構造パターン基板を用いた薄膜太陽電池
本発明では、薄膜太陽電池用の三次元微細構造パターン基板とその基板を用いた薄膜太陽電池が提供されています。特に、アモルファスシリコン薄膜等のシリコン系薄膜を用いた薄膜太陽電池の効率を向上させるための技術です。基板の表面には電極膜が形成され、その上に薄いアモルファスシリコン太陽電池が形成されます。この基板が持つ三次元微細構造が薄膜太陽電池の性能を飛躍的に向上させます。また、透明基板はガラス、石英、樹脂などから選択でき、表面には透明導電膜が有ります。これらの特性により、従来のテクスチャ基板に比べて格段に高い効率を実現することが可能となっています。
つまりは、シリコン系薄膜を用いた薄膜太陽電池の効率向上を実現する基板技術
AIによる特許活用案
おすすめ業界 エネルギー産業電子部品製造業建築業
- 高効率太陽電池の開発
- 新しい電力供給システムの構築
- 環境に優しいエネルギーインフラの構築
この技術を利用して、効率の良い太陽電池の開発が可能となります。特に、建物の壁面や窓ガラスなどに組み込むことで、太陽光をより効率的に電力に変換できる可能性があります。
この基板技術を用いた太陽電池を用いて、新しい電力供給システムを構築することができます。一般的な太陽電池よりも効率が良いため、より多くの電力を供給することが可能となります。
薄膜太陽電池は、その製造過程で発生するCO2の量が少ないなど、環境負荷が低いという特性があります。この発明を活用して、より効率的かつ環境に優しいエネルギーインフラを構築することが可能です。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2014-235865 |
| 発明の名称 | 薄膜太陽電池用三次元微細構造パターン基板と薄膜太陽電池 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 公開番号 | 特開2016-100444 |
| 登録番号 | 特許第0006415942号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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