国立研究開発法人産業技術総合研究所
プリンタブルエレクトロニクスの革新：高効率な親水性パターン形成方法
国立研究開発法人産業技術総合研究所
プリンタブルエレクトロニクスの革新：高効率な親水性パターン形成方法
具体的には、親水基を未端に有する樹状高分子を光架橋剤として使用し、基材の疎水性表面に膜を形成します。その後、8300-400nmの波長の光を所定パターンで照射します。照射後、基材の表面を洗浄することにより、親水性部と疎水性部を有するパターンが形成されます。さらに、該方法で形成された親水性部に導電性膜を形成することが可能です。これにより、電極、配線等の各種の導電性パターン膜を形成できます。本特許はプリンタブルエレクトロニクス技術において、特に電極や配線の形成に好適で、効率的な導電性パターン形成方法として期待されています。
つまりは、本特許は、親水基を有する化合物に特定の基を導入した光架橋剤を用い、親水性部と疎水性部を有するパターンを形成する方法に関する。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 電子機器製造業印刷業化学工業
- フレキシブル電子デバイスの製造
- 環境調和型プリンタブルエレクトロニクスの開発
- プリンタブルセンサ技術の進化
この技術はフレキシブル基材を用いた電子デバイスの製造に適しています。従来のフォトリソグラフィー法では、基材の歪みに対応するのが難しかったが、本特許の技術ではその問題を克服可能です。
本特許の技術は、低コスト化、生産性向上、そして環境調和性を追求するプリンタブルエレクトロニクスの開発に有用です。特に、導電性パターン形成の効率化は、プリンタブルエレクトロニクスの進展に大きく寄与すると期待されます。
本特許の技術はプリンタブルセンサ技術の進化にも寄与します。親水性部に導電性膜を形成することで、高感度かつ高精度のセンサを低コストで製造することが可能となります。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2014-252280 |
| 発明の名称 | 光架橋剤による電極印刷用親撥パターン形成方法 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 | 特開2016-114716 |
| 登録番号 | 特許第0006544673号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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