国立研究開発法人産業技術総合研究所
高感度＆高速応答のサーミスタ製造技術
国立研究開発法人産業技術総合研究所
高感度＆高速応答のサーミスタ製造技術
本発明は、耐熱性が低いフレキシブル基材上に、サーミスタ膜を形成する新しい製造方法を提供します。特に、粒径が1μm未満である酸化物ナノ粒子を含有する分散液を基材に塗布し、サーミスタ前駆体膜を形成します。その後、10mJ/cm²以上45mJ/cm²未満のフルエンスで、パルスレーザー光をサーミスタ前駆体膜に照射します。この方法は、基材にダメージを与えずにサーミスタ膜を形成することが可能であり、製造工程が簡便であるため、生産性の向上が期待されます。また、高感度・高速応答のサーミスタの製造が可能となり、各種デバイスへの組み込みに対応可能です。
つまりは、耐熱性が低い基材上にサーミスタ膜を形成する新しい製造方法
AIによる特許活用案
おすすめ業界 電子機器センサー技術ナノテクノロジー
- 高感度センサーの開発
- フレキシブルデバイスの製造
- 高効率製造ラインの構築
本特許の技術を活用し、高感度・高速応答のサーミスタを用いたセンサーを開発する。これにより、より精度の高い計測が可能となり、各種の産業や研究に貢献できる。
耐熱性が低いフレキシブル基材上にサーミスタ膜を形成できる本特許の技術を活用し、ウェアラブルデバイスやフレキシブルディスプレイなどの製造を行う。これにより、新たな形状や機能の電子機器を開発できる。
本特許の技術を活用することで、基材にダメージを与えずにサーミスタ膜を形成でき、製造工程が簡便となる。これにより、高効率のサーミスタ製造ラインを構築し、生産性を向上させる。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2015-003583 |
| 発明の名称 | サーミスタの製造方法 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 | 特開2016-129211 |
| 登録番号 | 特許第0006529023号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
準備中です