秋田県、国立大学法人秋田大学
革新的な粒子分散溶液制御技術

秋田県、国立大学法人秋田大学
革新的な粒子分散溶液制御技術
本発明は、溶媒中に粒子が分散した分散溶液のゼータ電位制御方法に関するものであり、流れ方向に対して電界が垂直に加わるように対電極を設置し、周波数を変動させることで、分散溶液のゼータ電位の絶対値を高め、粒子の分散性を向上させることができます。また、この技術を利用した分散溶液製造方法、反応方法、処理方法、洗浄方法、ゼータ電位制御装置、研磨装置などの具体的な活用例が示されています。
つまりは、高精度なゼータ電位制御方法を提供する特許技術
AIによる特許活用案
おすすめ業界 化学工業半導体産業医薬品製造
- 高精度な分散溶液製造
- 精密な研磨プロセスの実現
- 高品質な洗浄方法の提供
本技術を用いて、分散溶液のゼータ電位を高精度に制御することで、粒子の分散性を向上させ、より一貫性のある分散溶液を製造することが可能となります。これにより、品質の高い製品を安定して提供することができます。
本技術を研磨装置に応用することで、スラリーの流れ方向に対して電界が垂直に加わるように対電極を設置し、変動電界を印加することで、精密な研磨プロセスを実現することができます。これにより、半導体の製造などで必要とされる高精度な研磨が可能となります。
洗浄液中の不純物粒子のゼータ電位を制御することにより、不純物粒子が対象物に付着するのを防止する洗浄方法を提供します。これにより、洗浄液の品質を一定に保つことが可能となり、洗浄効果を向上させます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
出願番号 | 特願2015-025880 |
発明の名称 | ゼータ電位制御法を用いた処理方法 |
出願人/権利者 | 秋田県、国立大学法人秋田大学 |
公開番号 | 特開2016-147348 |
登録番号 | 特許第0005891320号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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