国立研究開発法人産業技術総合研究所
高品質遷移金属シリサイド膜の革新的製造法
国立研究開発法人産業技術総合研究所
高品質遷移金属シリサイド膜の革新的製造法
本特許は、フッ素、塩素、有機物、遷移金属、水素、シリコンを原料ガスとして使用し、これらを特定の温度や特定の波長領域の光の下で化学反応させることにより、電気特性に優れた遷移金属シリサイド膜を製造する方法を提供します。また、化学気相成長を利用して遷移金属シリサイド膜を作製する製造装置についても詳細に説明しています。この製造法は、電極、高温構造物、耐環境用コーティングなどの材料として期待される金属性シリサイドや、発光素子、太陽電池、熱電変換素子等の材料として期待されるシリサイド半導体の製造に適用可能です。特に、シリコンを用いるLSI等のプロセスにマッチングの良い材料として知られています。
つまりは、高耐熱性、耐酸化性、耐食性、電気伝導特性を有する遷移金属シリサイド膜の製造法を提供します。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体業界電子部品製造業エネルギー業界
- ハイエンド半導体の製造
- 環境耐性の高い材料の開発
- エネルギー変換素子の製造
高品質な遷移金属シリサイド膜を用いて、電気特性に優れた高性能な半導体を製造することが可能です。これにより、より高速で大容量のデータ処理が可能となり、AIやデータセンターなどへの応用が期待できます。
高耐熱性、耐酸化性、耐食性を持つ遷移金属シリサイド膜は、過酷な環境下でも機能を維持するような材料の開発に利用できます。これにより、自動車部品や航空機部品など、耐久性と信頼性が求められる産業に新たな価値を提供できます。
高品質な遷移金属シリサイド膜は、発光素子、太陽電池、熱電変換素子等のエネルギー変換素子の製造に利用することが可能です。これにより、エネルギー変換効率の向上や、新たなエネルギー源の開発に貢献できます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2015-096023 |
| 発明の名称 | 遷移金属シリサイド膜、その製造方法及び製造装置並びに半導体装置 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 | 特開2016-211038 |
| 登録番号 | 特許第0006503543号 |
- サブスク
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- ライセンス
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