国立大学法人島根大学
非晶質半導体膜の効率的な単結晶化と新たなパターニング方法
国立大学法人島根大学
非晶質半導体膜の効率的な単結晶化と新たなパターニング方法
本特許は、非晶質の半導体膜等の所望箇所を効率的に単結晶化する方法を提供します。これは、半導体レーザ装置からのレーザ光を、ダブプリズムを用いてレーザ光の半分を反転させ、光の進行方向から見て略V字状のビームスポットに形状変更します。これにより、平面的に広がる非卓質ないし微結草の対象素材に対してビームスポットを用いることが可能となります。また、レジストを不要とする新たなパターニング方法も提供します。これらの技術は、特に半導体製造業界やディスプレイ製造業界などで非常に有用です。
つまりは、半導体レーザを利用した単結晶化方法と新規パターニング方法の提供
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体製造業ディスプレイ製造業マイクロエレクトロニクス業界
- 高性能半導体製造
- 高精度パターニング
- ディスプレイ製造の効率化
非晶質の半導体膜を効率的に単結晶化するため、高性能な半導体製品の製造に活用することができます。これにより、製品の性能向上とコスト削減が期待できます。
レジストを不要とする新たなパターニング方法を用いて、微細なパターン形成を行うことが可能です。これにより、精密な半導体製品の製造が可能となります。
本特許の技術を利用することで、ディスプレイの製造プロセスを効率化し、高品質な製品を低コストで提供することが可能になります。特に、液晶ディスプレイの高速駆動化・高精細化に対応できます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2015-135706 |
| 発明の名称 | 結晶化方法、パターニング方法、および、薄膜トランジスタ作製方法 |
| 出願人/権利者 | 国立大学法人島根大学 |
| 公開番号 | 特開2017-017292 |
| 登録番号 | 特許第0006544090号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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