国立研究開発法人産業技術総合研究所
高平滑性、欠陥の少ない保護膜の形成技術

国立研究開発法人産業技術総合研究所
高平滑性、欠陥の少ない保護膜の形成技術
本発明は、アセチルパラミロンと有機溶剤を含有する保護膜前駆体液を基材上に塗布し、乾燥させることで欠陥の少ない平滑な保護膜を形成する技術です。保護膜の主成分はアセチルパラミロンで、これはミドリムシ由来のパラミロンをアセチル化したものであり、欠陥が少なく平滑性が高い保護膜を実現します。また、アセチルパラミロンのグルコース1分子当たりのアセチル基置換度が2.0以上であることが好ましいとされています。基材としては、液晶基板等が適しています。この技術は、欠陥が少なく平滑性が高い保護膜が得られるという効果を持ちます。
つまりは、ミドリムシ由来のアセチルパラミロンを主成分とした保護膜形成方法
AIによる特許活用案
おすすめ業界 化学工業電子部品製造業バイオテクノロジー
- 液晶ディスプレイの製造
- ミドリムシ由来素材の開発
- 高精度光学機器の製造
本発明の保護膜形成方法を用いて、液晶ディスプレイの基材に保護膜を形成する。これにより、線状の模様が生じるなどの表面欠陥が現れにくい液晶ディスプレイが製造可能となる。
ミドリムシ由来のアセチルパラミロンを利用した新素材の開発に活用する。その特性を活かし、環境に優しいバイオ素材としての利用が期待される。
高平滑性が求められる光学機器のレンズやフィルター等に、本発明の保護膜形成方法を適用する。これにより、欠陥の少ない高品質な光学機器の製造が可能となる。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
出願番号 | 特願2015-236767 |
発明の名称 | 保護膜前駆体液、保護膜形成方法、および複合体 |
出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
公開番号 | 特開2017-101177 |
登録番号 | 特許第0006798673号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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