国立研究開発法人物質・材料研究機構
革新的な高コントラストX線撮像装置
国立研究開発法人物質・材料研究機構
革新的な高コントラストX線撮像装置
この特許は、X線ビームが反射するように試料上で調整する傾斜角を持つ面内回転ステージ、前記反射したX線ビームの強度プロファイルを測定するX線検出器、小さな形状の開口部が符号化規則で配置されたアダマールマスク、そして画像再構成演算を行う画像化演算装置を備えたX線撮像装置に関するものです。特に、試料が薄膜・多層膜である場合に、貴金属の臨界角に固定された状態で、X線ビームの全反射現象を利用して高いコントラスト画像を生成します。
つまりは、貴金属でコーティングされた薄膜・多層膜試料の高コントラスト画像を生成
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体製造医療技術材料科学
- 高精度な薄膜・多層膜の検査
- 医療分野での活用
- 材料科学の研究
薄膜・多層膜の品質管理や故障分析において、このX線撮像装置は高いコントラストを持つ画像を生成することで、微細な欠陥や不均一性を詳細に検出することが可能です。
人体や医療器具の撮像において、高コントラストと高解像度を持つこのX線撮像装置は、より詳細な情報を提供し、診断や治療の精度を向上させることが可能です。
新素材の開発や既存素材の特性解析において、このX線撮像装置は、材料内部の微細な構造や不均一性を詳細に観察することが可能で、材料科学の進歩に寄与します。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2017-079620 |
| 発明の名称 | Ｘ線撮像装置及びその使用方法 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 公開番号 | 特開2017-142261 |
| 登録番号 | 特許第0006395275号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
準備中です