国立大学法人東京工業大学
革新的なサンプリングシステムで高解像度サンプリングを実現
国立大学法人東京工業大学
革新的なサンプリングシステムで高解像度サンプリングを実現
本特許は、プラズマ照射法とレーザーアブレーション法を併用した新たなサンプリングシステムに関するものです。脱離室に配置された第1のプラズマ源と第1のレーザー光源を用いて、被対象物からサンプルを効率的に採取します。さらに、サンプリングされたサンプルは、分析部で詳細に調べられます。サンプルをイオン化するためのイオン化室も設けられており、第2のプラズマ源と第3のレーザー光源を使用してサンプルのイオン化を行います。このシステムは、被対象物を傷つけることなく、高い精度でサンプリングを行うことが可能で、各種の分析や検査に活用できます。
つまりは、低侵襲で位置分解能に優れ、サンプルの性質に依存せずに容易にサンプリングを行うことが可能な装置を提供します。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 生物学医療材料科学
- 高精度な物質分析
- 低侵襲な医療診断
- 新素材の開発・分析
各種の物質を高い精度で分析するために、このサンプリングシステムを活用します。被対象物からサンプルを取得し、その性質を詳細に調べることが可能です。これにより、質量分析などの精密な分析が可能となります。
本サンプリングシステムは、低侵襲でサンプルを採取できるため、医療診断における生体サンプリングに活用できます。患者からの組織サンプルを傷つけることなく採取し、詳細な分析を行うことが可能です。
材料科学の領域において、新たな素材の開発や既存の素材の性質を詳しく分析するために本システムを使用します。高い解像度でのサンプリングが可能なため、微細な構造や成分を詳細に分析することができます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2016-096092 |
| 発明の名称 | サンプリング方法およびサンプリングシステム |
| 出願人/権利者 | 国立大学法人東京工業大学 |
| 公開番号 | 特開2017-203713 |
| 登録番号 | 特許第0006799311号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
準備中です