国立大学法人 筑波大学
多層グラフェンの新たな製法と積層体
国立大学法人 筑波大学
多層グラフェンの新たな製法と積層体
本特許は、多層グラフェンの製造方法及びその積層体に関するもので、特に、低温で高品質な多層グラフェンを製造するための新たな方法を提供します。これにより、大量の電気や熱を取り扱い、電極、LSI配線、排熱材等としての利用が可能になります。特に、基板となるガラスやLSIチップ上に形成するため、基板が耐熱可能な低温の温度領域での合成が可能となります。また、本特許による製法では、再現性良く多層グラフェンを得ることができ、多層グラフェンの大規模生産も可能となります。
つまりは、低温で高品質な多層グラフェンを製造し、大量の電気や熱を流すことが可能な製品を提供します。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体産業電子機器製造業自動車産業
- 高性能電極の製造
- 高効率な排熱材の開発
- 大規模生産への応用
高品質な多層グラフェンを用いて、大量の電気を取り扱うことが可能な電極を製造します。これにより、電気伝導性が優れた電極を提供することが可能となります。
本特許の製法により製造された多層グラフェンを使用して、高効率な排熱材を開発します。大量の熱を効率よく取り扱うことが可能となり、エネルギー効率の向上に寄与します。
再現性良く多層グラフェンを製造する方法を提供します。これにより、多層グラフェンの大規模生産が可能となり、広範な産業での応用が期待されます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2016-167043 |
| 発明の名称 | 多層グラフェンの製造方法及び多層グラフェン積層体 |
| 出願人/権利者 | 国立大学法人 筑波大学 |
| 公開番号 | 特開2018-035010 |
| 登録番号 | 特許第0006723603号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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