東京応化工業株式会社
高度な制御で最適な基板加熱を実現する装置
東京応化工業株式会社
高度な制御で最適な基板加熱を実現する装置
本基板加熱装置は、基板の加熱を最適化するために高度な制御機能を備えています。赤外線反射部を含み、加熱部と赤外線反射部との間に着脱構造が設けられています。この着脱構造は、載置面から突出する突出部と、赤外線反射部に形成される挿込部を含む。この構造により、基板の段階的な加熱が可能となり、加熱による基板の膨張や収縮を許容します。また、基板の搬送部や温度検知部なども設けられ、基板の状態を常に監視しながら最適な状態に保つことができます。
つまりは、赤外線反射部を有し、基板の段階的加熱を可能にする基板加熱装置
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体製造電子部品製造精密機器製造
- 高精度な半導体製造
- 電子部品の品質向上
- 精密機器の製造最適化
半導体製造では基板の加熱状態が製品の品質に大きく影響します。この基板加熱装置を使用することで、基板の加熱状態を最適化し、より精度の高い半導体製造を可能にします。
電子部品製造でも基板の加熱状態は重要な要素です。この装置を使用することで、一定の加熱状態を保つことが可能となり、電子部品の品質を一貫して向上させることができます。
精密機器の製造においても、基板の加熱状態は重要な要素です。本装置を使用することで、基板の加熱状態を最適化し、精密な製造を可能にします。これにより、製品の品質向上や生産効率の向上を実現することができます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2016-167693 |
| 発明の名称 | 基板加熱装置及び基板加熱方法 |
| 出願人/権利者 | 東京応化工業株式会社 |
| 公開番号 | 特開2018-037482 |
| 登録番号 | 特許第0006789040号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
準備中です