国立研究開発法人物質・材料研究機構
スパッタ方法とその装置の新革命：コンビナトリアルスパッタ装置
国立研究開発法人物質・材料研究機構
スパッタ方法とその装置の新革命：コンビナトリアルスパッタ装置
本特許は、基板に対する薄膜コーティングを高精度に行うためのスパッタ方法とその装置に関するもので、コンビナトリアルスパッタ装置という技術を提案しています。この装置は、複数の基板を装着可能な基板装着部と、スパッタ対象の基板を取り付ける部分、そしてスパッタビームを妥射する複数のスパッタガンとから構成されています。さらに、スパッタガンと基板表面位置との間には、開口を有するスパッタビームマスクが設けられ、スパッタビームを絞って基板表面位置に照射します。これにより、異なるスパッタ対象への照射が継続している間でも、前記位置による照射の均一性を保つことが可能となります。この装置は、複数の基板を同時に装着し、選択した基板に対してスパッタを行うことができるため、大量生産にも適しています。
つまりは、基板に対し高精度の薄膜コーティングを可能にするスパッタ方法とその装置に関する特許です。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体産業航空宇宙産業工業製品製造業
- 高精度薄膜コーティング装置の開発
- 大量生産ラインの最適化
- 新素材の開発
本特許のスパッタ方法と装置を用いて、様々な産業分野における高精度の薄膜コーティング装置を開発することが可能です。これにより、生産効率と製品の品質を向上させることができます。
本特許の技術を大量生産ラインに導入することで、生産プロセスの最適化と効率化を図ることが可能です。複数の基板を同時に装着し、選択した基板に対してスパッタを行うことができるため、生産性の向上が期待できます。
本特許の技術を利用し、新たな機能を付加したり、基板材料が本来有する優れた機能を増強したりする新素材の開発が可能となります。これにより、新たな市場を開拓し、ビジネスの拡大を図ることができます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2016-251841 |
| 発明の名称 | コンビナトリアルスパッタ方法及び装置 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 公開番号 | 特開2018-104761 |
| 登録番号 | 特許第0006868889号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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