国立研究開発法人物質・材料研究機構
高耐熱と軽金属を活用した電磁波四射材料の製造法
国立研究開発法人物質・材料研究機構
高耐熱と軽金属を活用した電磁波四射材料の製造法
本特許は、便利で効率的な電磁波四射材料の製造法を提供します。この製造法では、第一の導電体表面に誘電体層を形成し、その上に第二の導電体の層を形成します。その後、第二の導電体の層の表面に複数の球を単層配列し、これらをマスクとして第二の導電体の層をエッチングします。この過程で、複数の導電体ディスクが形成され、複数の球は除去されます。製造過程で用いられる導電体ディスクや第一の導電体表面の少なくとも一つは高耐熱材料または軽金属から選択されます。これにより、電磁波四射材料の積層構造を効率的に形成します。
つまりは、便利で効率的な電磁波四射材料の製造法を提供。高耐熱材料や軽金属の活用により、最適な積層構造を形成します。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 電子部品製造業半導体製造業宇宙航空業
- 高耐熱性を求める電子部品の製造
- 宇宙航空機器の製造
- 電磁波吸収及び放射材料の開発
電子部品の製造では、高い耐熱性を持つ材料が求められます。本特許の製造法を用いると、高耐熱材料からなる導電体ディスクを形成することが可能で、電子部品の性能向上に寄与します。
宇宙航空機器は、厳しい環境下での使用に耐えうる高耐熱性と軽量性が求められます。本特許の製造法を用いると、高耐熱材料や軽金属からなる積層構造を有する電磁波四射材料を形成でき、宇宙航空機器の性能向上に寄与します。
本特許の製造法は、電磁波の吸収及び放射を可能にする材料の開発にも応用可能です。具体的には、本特許の製造法により形成される積層構造を有する電磁波四射材料は、電磁波の吸収及び放射の両方を可能にします。これにより、様々な電磁波を利用した技術開発に対応可能となります。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2018-101064 |
| 発明の名称 | 電磁波吸収及び輻射材料及びその製造方法並びに赤外線源 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
| 公開番号 | 特開2018-136576 |
| 登録番号 | 特許第0006834110号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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