日本放送協会
高性能を持つ次世代薄膜デバイス
日本放送協会
高性能を持つ次世代薄膜デバイス
この特許は、薄膜デバイスの製造方法に関するもので、特に有機EL素子やLCDを駆動するための薄膜トランジスタを備えた薄膜デバイスの製造に焦点を当てています。酸化物半導体膜中に含まれる金属元素の比率や、ソース/ドレイン電極部の構成など、具体的な製造プロセスとデバイスの構造について詳細に記載されています。また、デバイスの抵抗率や機能も明確に定義されています。この薄膜デバイスは、大型・解像度・高速駆動が要求される次世代ディスプレイや、耐熱性の低い樹脂基板等への適用が可能であり、その高性能と効率性が特徴です。
つまりは、酸化物半導体膜と薄膜トランジスタを使用し、高速駆動や大型解像度を実現する薄膜デバイス
AIによる特許活用案
おすすめ業界 電子工学ディスプレイ製造半導体製造
- 高品質なディスプレイの製造
- 耐熱性の低い素材への適用
- 電子機器の小型化・軽量化
この薄膜デバイスの製造方法を用いれば、高解像度で高速駆動が可能な大型ディスプレイを製造することが可能です。この技術は、映像技術の進化に伴い、より高品質なディスプレイが求められる現代において、高い価値を持つ可能性があります。
この薄膜デバイスの製造方法は、低温での成膜が可能であるため、耐熱性が低い樹脂基板などの素材にも適用することができます。これにより、従来の方法では難しかった新たな素材への適用が可能となり、製品の新たな可能性を生み出すことができます。
この特許の技術は、薄膜デバイスの製造を可能にします。これにより、電子機器の小型化・軽量化を目指す製造業者にとって有用な技術となります。また、これらの製品は消費者にとっても携帯性と利便性が向上し、より魅力的な選択肢となります。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2017-230116 |
| 発明の名称 | 薄膜デバイス |
| 出願人/権利者 | 日本放送協会 |
| 公開番号 | 特開2018-137422 |
| 登録番号 | 特許第0007060365号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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