国立研究開発法人産業技術総合研究所
非接触で微細な欠陥を検出する画期的な技術
国立研究開発法人産業技術総合研究所
非接触で微細な欠陥を検出する画期的な技術
本特許は、非接触で被検査体に応力を印加し、その応力の影響による散乱光強度の変化を検出することで微細な欠陥を検査する技術を提供します。具体的には、平行光を照射し、その散乱光を検出することで欠陥を検査します。さらに、この技術は、熱応力印加手段を用いて応力を印加することも可能です。また、レーザー光源由来の光を用いて集光することも可能です。この技術は、ウエハや光学機能素子の基板、MEMS構造体、ガラス、レチクルなどの微細な欠陥検査に適しています。
つまりは、この特許は、被検査体に応力を印加することで微細な欠陥を検出する方法と欠陥検査装置について説明しています。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体製造光学機器製造ガラス製造
- 半導体ウエハの欠陥検査
- 光学機能素子の欠陥検査
- ガラス製品の欠陥検査
半導体ウエハの製造過程において、微細な欠陥が発生することがあります。この技術を利用すれば、非接触でウエハに応力を印加し、散乱光の強度変化から欠陥を検出することが可能になります。
光学機能素子の基板には、微細な欠陥が存在すると性能に大きな影響を及ぼします。この技術を利用すれば、非接触で基板に応力を印加し、その結果生じる散乱光の強度変化から欠陥を検出できます。
ガラス製品もまた、微細な欠陥が存在すると製品の品質に影響します。この技術を応用することで、ガラス製品に非接触で応力を印加し、散乱光の強度変化から欠陥を検出することが可能になります。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2017-040821 |
| 発明の名称 | 欠陥を検査する方法および欠陥検査装置 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 | 特開2018-146356 |
| 登録番号 | 特許第0006984860号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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