東京応化工業株式会社
革新的な基板加熱装置とその方法
東京応化工業株式会社
革新的な基板加熱装置とその方法
この特許は、基板加熱装置とその使用方法に関するものです。装置は、基板の一方側に配置されたホットプレートと、基板の他方側に配置され赤外線により加熱可能な赤外線ヒータを含む基板加熱部を特徴としています。さらに、チャンバ加熱部は少なくとも周壁に配置されており、チャンバの内部状態を調整可能なガス供給部も含まれています。これにより、基板の両面を均一に加熱することが可能となります。特に電子デバイスの製造において、基板の加熱が重要な工程であるため、この装置と方法は有用です。
つまりは、基板加熱装置とその加熱方法を提供する特許で、基板の両面を均一に加熱でき、更にチャンバの内部状態を調整可能な装置が特徴。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 電子機器製造業半導体製造業プリント基板製造業
- 高品質な電子デバイスの製造
- 製造工程の効率化
- 環境対応型製造プロセスの開発
この基板加熱装置と方法は電子デバイスの製造において活用可能です。基板の加熱は、電子デバイスの品質に大きく影響を与える重要な工程であり、この装置と方法は基板の両面を均一に加熱することが可能となります。これにより、製造過程における品質の均一性が向上し、製品全体としての品質を高めることができます。
この基板加熱装置と方法は、製造工程の効率化に貢献します。基板の両面を均一に加熱できることにより、加熱工程の時間を短縮することが可能となります。また、チャンバの内部状態を調整可能な構造により、生産ラインの柔軟性が向上します。
この基板加熱装置と方法は環境に配慮した製造プロセスの開発にも寄与します。特に、チャンバの内部状態を調整可能な構造は、ガスの供給量を適切に調節することで、エネルギー効率を向上させるとともに、排出ガスの量を抑制することが可能となります。これにより、環境負荷の低減と製造コストの削減を同時に実現することが可能となります。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2017-064404 |
| 発明の名称 | 基板加熱装置、基板処理システム及び基板加熱方法 |
| 出願人/権利者 | 東京応化工業株式会社 |
| 公開番号 | 特開2018-169050 |
| 登録番号 | 特許第0007018713号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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