国立研究開発法人産業技術総合研究所
次世代の高性能断熱材・多孔質体の製造方法
国立研究開発法人産業技術総合研究所
次世代の高性能断熱材・多孔質体の製造方法
本特許は、キトサン及びその塩、トリアルキルシリル基、そして特定の密度・水滴接触角を持つ多孔質体の製造方法を提供します。製造方法は、高分子化合物の水溶解液乃至水分散液に対し、架橋剤を添加して立体状に架橋させた架橋体を含む湿潤グルを形成、非プロトン性溶媒に溶媒交換し、湿潤グルにトリアルキルシリル基を有するシリル化剤を添加して疎水化、最後に湿潤グルを乾燥させて多孔質体を得るという手順を特徴とします。こうした多孔質体は、高い空隙率を持つため、優れた断熱性を発揮します。
つまりは、水溶性多糖類を活用して、高分子化合物を立体状に架橋させ、疎水化および乾燥工程を経て多孔質体を製造する方法を提供します。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 建築業製薬業化学産業
- 高性能断熱材の開発
- エコフレンドリーな製品開発
- 新規医療機器・製薬製品の開発
本特許の製造方法を用いて、高い空隙率を持つ多孔質体を製造することで、優れた断熱性を持つ新型の断熱材を開発することが可能です。
キトサンといった水溶性多糖類は生分解性で環境負荷が低いため、本特許の製造方法を活用することで、環境に優しいエコフレンドリーな製品の開発が期待できます。
本特許の製造方法は、キトサンやその塩のような生体適合性を持つ材料を利用しています。これを活用することで、体内に適応する新規の医療機器や製薬製品の開発に役立てることができます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2017-075757 |
| 発明の名称 | 多孔質体及びその製造方法 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 | 特開2018-177882 |
| 登録番号 | 特許第0006896267号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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