国立研究開発法人産業技術総合研究所
レーザー技術を活かした革新的なパターン構造体製造方法
国立研究開発法人産業技術総合研究所
レーザー技術を活かした革新的なパターン構造体製造方法
本発明は、透明基材と、その上の透明樹脂層上の凸部パターンを備えるスタンパを使用して、パターン構造体を製造する新たな方法に関するものです。具体的には、レーザー光を一様に照射することにより、スタンパの凸部パターンをパターン構造体用基材に転写させます。また、スタンパの製造方法についても提案しています。これにより、原料膜の内レーザー光が照射されている部分のみを透明樹脂層側に転写させることが可能となります。この方法は、原料膜と透明樹脂層とを順次積層した第1の基材と、透明樹脂層を備える透明基材とを対向させ、レーザー光を原料膜層側から照射することで実現します。これにより、複雑なパターン構造体を効率的に製造することが可能となります。
つまりは、独自のレーザー光照射技術を用いて、複雑なパターン構造体を効率良く製造する方法を提供します。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体製造業マイクロエレクトロニクスナノテクノロジー
- 高精度なパターン構造体の製造
- スタンパの製造業での利用
- ナノテクノロジー分野での応用
この発明を適用することで、高精度なパターン構造体を効率良く製造することが可能となります。特に、微細なパターンが必要となる半導体製造業やマイクロエレクトロニクス業界において有用です。
この技術は、スタンパの製造業にも活用可能です。レーザー光を使用した独自の製造方法により、複雑な形状のスタンパを効率的に製造することができます。
ナノスケールでの精度が求められるナノテクノロジー分野でも、この技術は大いに活用できます。高精度なパターン転写により、ナノスケールのデバイス製造に貢献します。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2017-127907 |
| 発明の名称 | パターン構造体形成用スタンパ及びその製造方法並びにパターン構造体の製造方法 |
| 出願人/権利者 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
| 公開番号 | 特開2019-010776 |
| 登録番号 | 特許第0006913941号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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