芝浦メカトロニクス株式会社
革新的な保護膜形成装置
芝浦メカトロニクス株式会社
革新的な保護膜形成装置
本特許は、基板上に保護膜を成形するための装置に関するものです。具体的には、成形板と基板とを離隔位置に相対移動させる際に、成形板を離隔位置に弾性支持する弾性部材と、基板の成形板よりはみ出した領域を押さえることを特徴とする保護膜形成装置です。また、内部に減圧可能な真空室が構成され、真空室内に搬送部及び貼合部を備える真空チャンバを有しています。この装置は、基板の表面に、紫外線硬化樹脂等の接着剤からなる保護膜を形成する際に、効率よく高品質な保護膜を形成することが可能です。
つまりは、基板上に保護膜を形成するための新たな装置技術を提供します。
AIによる特許活用案
おすすめ業界 電子機器製造業自動車産業家電製造業
- 高品質な保護膜の形成
- 高精度な製造プロセスの実現
- コスト削減と生産性向上
本装置を用いることで、高品質な保護膜を形成することが可能です。紫外線硬化樹脂等の接着剤からなる保護膜を形成する際に、効率よく高品質な保護膜を形成することが可能となります。
本装置は、成形板と基板とを精度良く相対移動させることができ、基板の成形板よりはみ出した領域を押さえることができます。これにより、高精度な製造プロセスを実現することが可能となります。
本装置を使用することで、効率的な保護膜形成が可能となり、生産コストの削減と生産性の向上が期待できます。特に、大量生産が求められる電子機器や自動車部品の製造において有効なソリューションとなるでしょう。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2017-133158 |
| 発明の名称 | 保護膜形成装置 |
| 出願人/権利者 | 芝浦メカトロニクス株式会社 |
| 公開番号 | 特開2019-016518 |
| 登録番号 | 特許第0006959776号 |
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
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