東京応化工業株式会社
高精度な基板加熱が可能な装置とその方法
東京応化工業株式会社
高精度な基板加熱が可能な装置とその方法
この特許は、基板の加熱を細かく制御するための基板加熱装置とその使用方法に関するものです。装置はホットプレートと赤外線ヒータを含み、これらは加熱範囲を制御することが可能です。さらに、基板との相対位置を調整する位置調整部も含まれています。この装置は、基板の第一面とは反対側の第二面を支持でき、この第二面を法線方向に移動可能な複数のピンを含んでいます。このシステムは、基板の温度を検知し、適切な加熱を行うことで、基板の品質を一定に保つことが可能です。また、装置の使用方法も特許に含まれており、基板を収容する工程、雰囲気を減圧する工程、基板を加熱する工程、圧力を検知する工程、基板加熱部を制御する工程が詳細に説明されています。
つまりは、基板の加熱を厳密に制御できる基板加熱装置と、その使用方法
AIによる特許活用案
おすすめ業界 半導体製造業電子部品製造業マイクロエレクトロニクス
- 高品質な半導体製造
- 電子部品製造の効率化
- マイクロエレクトロニクスの高精度製造
基板の一貫した品質を確保するために、この基板加熱装置を半導体製造ラインに導入します。精密な温度と圧力制御により、半導体の品質を一定に保つことができます。
この基板加熱装置は、電子部品製造業でも活用可能です。温度と圧力を制御することで、製造プロセス全体の効率を向上させることが可能です。
マイクロエレクトロニクスの製造では、微細な基板の加熱制御が求められます。この基板加熱装置は、そのような高精度な加熱制御を可能にし、製品の品質と一貫性を向上させることができます。
活用条件
- サブスク
- 譲渡
- ライセンス
商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ
特許評価書
- 権利概要
| 出願番号 | 特願2017-167805 |
| 発明の名称 | 基板加熱装置、基板処理システム及び基板加熱方法 |
| 出願人/権利者 | 東京応化工業株式会社 |
| 公開番号 | 特開2019-045061 |
| 登録番号 | 特許第0006554516号 |
- サブスク
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