知財活用のイノベーションで差別化を

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国立研究開発法人産業技術総合研究所
革新的な電子源:グラフェン膜技術の進化

国立研究開発法人産業技術総合研究所
革新的な電子源:グラフェン膜技術の進化

この特許は、グラフェン膜やグラファイト膜を用いた電子源に関するもので、電子加速層側の面が多孔質状であり、電極の厚みが均一であることを特徴としています。また、この電子源は液体や気体中で電子を放出し、液体や気体の改質や分解をすることも可能です。さらに、真空中や気体中で電子を放出し、蛍光体面に当てて発光させることもできます。この電子源は、その表面が多孔質状である点、そして表面の一部または全部が曲面となっている点が特徴的です。これらの特性により、この電子源は高性能かつ効率的な動作を可能にします。

つまりは、高性能な電子源を実現するグラフェン膜を用いた新しい技術

AIによる特許活用案

おすすめ業界 電子機器製造業化学業照明器具製造業

  • 高効率照明器具の開発
  • この電子源は、蛍光体面に電子を放出し発光させることが可能なため、照明器具の開発に利用することができます。特に、電子の高速放出能力を活用して、既存の照明器具よりも優れた効率と光出力を実現することが可能です。

  • 化学反応の効率化
  • この電子源は液体や気体中で電子を放出し、液体や気体の改質や分解をすることができます。これを利用して、化学反応の効率を向上させることが可能です。例えば、化学製品の製造プロセスや環境浄化技術などでの応用が考えられます。

  • 高性能ディスプレイの開発
  • この電子源は高速で電子を放出する能力があるため、ディスプレイの開発に利用することができます。特に、高速な電子放出は、高解像度や高リフレッシュレートのディスプレイの開発に役立つ可能性があります。

活用条件

  • サブスク
  • 譲渡
  • ライセンス

商品化・サービス化 実証実験 サンプル・プロトタイプ

特許評価書

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  • 権利概要
出願番号特願2017-197923
発明の名称電子源及び電子線照射装置並びに電子源の製造方法
出願人/権利者国立研究開発法人産業技術総合研究所
公開番号特開2019-071260
登録番号特許第0006983404号
  • サブスク
  • 譲渡
  • ライセンス

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